Освоение производства автоэпитаксиальных кремниевых структур и гетеро-эпитаксиальных структур Si/SiGe

Инициатор: ЗАО «Эпиэл». Генеральный директор В.Н. Стаценко

Цели и задачи проекта:

Проект нацелен на создание производственных мощностей и технологий для изготовления гетеро-эпитаксиальных структур Si/SiGe:C диаметром до 200 мм для СВЧ ИС с проектными нормами 90-65 нм и структур кремний-на-сапфире диаметром до 150 мм для радиационно-стойких ИС спецназначения.

Экосистема проекта:

Ключевые потребители услуг:

ОАО «НИИМЭ и Микрон», НПП «Сапфир», ОАО «Ангстрем», ФГУП «ВНИИА», ФГУ НПК «ТЦ МИЭТ», НИУ МИЭТ, ЗАО «ЗНТЦ», Субмикрон, ЗАО "ППК Миландр".